真空蒸鍍裝置VE-2013的特點(diǎn)

VE-2013是一款簡(jiǎn)單的真空蒸鍍裝置，繼承了VE-2030（我公司制造）的概念。外殼內(nèi)置TMP，實(shí)現(xiàn)緊湊外殼。由于是臺(tái)式機(jī)，所以不會(huì)占用太多空間。RP 放置在地板上。
我們使用緊湊的 TMP+RP 排氣系統(tǒng)以低廉的價(jià)格提供清潔、高真空的蒸發(fā)系統(tǒng)。它消除了復(fù)雜的排氣操作，只需觸摸面板開(kāi)關(guān)的ON/OFF控制即可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)。
使用鎢籃可以沉積金、鋁、鉻、銀等。碳蒸鍍采用夾具蒸鍍槍型，使用特殊碳（ SLC-30 ）進(jìn)行蒸鍍。（不能使用φ5mm碳棒。）

購(gòu)買(mǎi)時(shí)，您可以選擇碳?xì)庀喑练e電極或金屬氣相沉積電極。可以選擇購(gòu)買(mǎi)額外的電極。

碳蒸發(fā)電極

這是專(zhuān)用的碳蒸發(fā)電極。
它可以在高真空區(qū)域進(jìn)行碳蒸發(fā)，從而可以形成具有優(yōu)異膜質(zhì)量和膜強(qiáng)度的碳膜。
附帶的防塵蓋將碳蒸氣沉積的散射范圍降至必要的低限度，從而減輕了清潔的負(fù)擔(dān)。
使用特種碳（SLC-30）作為積碳源。

金屬蒸鍍電極

這是直徑0.5mm鎢籃專(zhuān)用的金屬蒸鍍電極。
可以輕松簡(jiǎn)便地進(jìn)行金、鋁、鉻等的氣相沉積。隨附的防塵蓋可最大限度地減少沉積區(qū)域并減輕清潔負(fù)擔(dān)。

主要產(chǎn)品規(guī)格